产品介绍
光谱共聚焦三维扫描仪能实现3D表面形貌扫描成像,2D和3D表面几何参数分析。广泛应用于半导体(硅,单晶硅,多晶硅)、半导体化合物,PCB板涂层,光刻胶、聚合物涂层、高分子聚合物、氧化物/氮化物,微电子机械等领域。仪器可实现纳米级微观世界的高精度测量,产品高度差、粗糙度、平面度等均可测量。
产品参数
仪器型号 / 仪器参数 | KVL500 |
测量行程(mm)* | 400X300X100 |
外形尺寸(mm) | 1000X1100X1300 |
仪器重量(kg) | 400 |
承载重量(kg) | 10 |
精度** | ±1µm |
工作台导轨 | P级精密V型交叉导轨 |
光栅尺*** | 0.02µm-0.1µm光栅尺 |
控制方式 | X/Y/Z三轴电动控制 |
激光传感器 | 彩色光谱共聚焦白光位移传感器 |
适用电源 | 100-240V(AC)50/60Hz |
工作环境 | 温度22±2℃湿度30%-80%振动<0.002g,低于15Hz |
备注
* 测量行程可根据产品需求扩展定制
** 精度指共焦白光测量厚度时的精度;选择不同型号的激光传感器而精度不同
*** 光栅尺可根据产品测量需求选配
仪器特点
各型号量程仪器支持定制开发
高精度花岗岩底座、立柱,横梁
超高精密工作台
超高稳定性,超高精度纳米级测量
透明、镜面、高光金属各种材质均可测量
产品高度差、粗糙度、平面度等均可测量